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OPTM series 顯微分光膜厚儀

使用顯微光譜法在微小區域內通過絕對反射率進行測量,可進行高精度膜厚度/光學常數分析。

可通過非破壞性和非接觸方式測量涂膜的厚度,例如各種膜、晶片、光學材料和多層膜。 測量時間上,能達到1秒/點的高速測量,并且搭載了即使是初次使用的用戶,也可容易出分析光學常數的軟件。

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產品特點:

頭部集成了薄膜厚度測量所需功能

通過顯微光譜法測量高精度絕對反射率(多層膜厚度,光學常數)

1點1秒高速測量

顯微分光下廣范圍的光學系統(紫外至近紅外)

區域傳感器的安全機制

易于分析向導,初學者也能夠進行光學常數分析

獨立測量頭對應各種inline客制化需求

支持各種自定義

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OPTM-A1

OPTM-A2

OPTM-A3

波長范圍

230 ~ 800 nm

360 ~ 1100 nm

900 ~ 1600 nm

膜厚范圍

1nm ~ 35μm

7nm ~ 49μm

16nm ~ 92μm

測定時間

1 / 1

光斑大小

10μm (最小約5μm)

感光元件

CCD

InGaAs

光源規格

氘燈+鹵素燈 ?

鹵素燈

電源規格

AC100V±10V 750VA(自動樣品臺規格)

尺寸

555(W) × 537(D) × 568(H) mm (自動樣品臺規格之主體部分)

重量

55kg(自動樣品臺規格之主體部分)



測量項目:

絕對反射率測量
多層膜解析
光學常數分析(n:折射率,k:消光系數)


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