ME-L 是一款科研級全自動高精度穆勒矩陣型橢偏儀，凝聚了頤光科研團隊在橢偏技術多年的投入，其采用行業的創新技術，具備：1.全穆勒矩陣測量技術，2.雙旋轉補償器同步控制技術，3.超級消色差補償器設計技術，4.納米光柵表征測量技術等技術。可應用于各種各向同性/異性薄膜材料膜厚、光學納米光柵常數以及一維/二維納米光柵材料結構的表征分析，代表當今橢偏行業技術水平。
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產品型號 |
ME-L全自動高精度穆勒矩陣型橢偏儀 |
主要特點 |
1、采用氘燈和鹵素燈復合光源，光譜覆蓋紫外到近紅外范圍 (193-2500nm) 2、可實現穆勒矩陣數據處理，測量信息量更大，測量速度快、數據更加精準 3、基于雙旋轉補償器配置，可一次測量獲得全部穆勒矩陣的16個元素，相對傳統光譜橢偏儀可獲取更加豐富**的測量信息 4、頤光磚利技術確保在寬光譜范圍內，提供上等穩定的各波段光譜 5、數百種材料數據庫、多種算法模型庫，涵蓋了目前絕大部分的光電材料 6、集成對納米光柵的分析，可同時測量分析納米結構周期、線寬、線高、側壁角、粗糙度等幾何形貌信息 |
技術參數 |
1、應用：科研級/企業級 2、基本功能：Psi/Delta、R/T、穆勒矩陣等光譜 3、分析光譜：380-1000nm(支持擴展至210-1650nm) 4、單次測量時間：1-8s 5、重復性測量精度：0.005nm 6、覺對精度(直通測量空氣) ? 橢偏參數:ψ=45±0.05°△=0±0.1° ? 穆勒矩陣:對角元素m=1±0.005；非對角元素m=0±0.005 7、光斑大?。捍蠊獍?-3mm；微光斑200μm |
可選配置 |
波段選擇 V:380-1000nm UV:245-1000nm XN:210-1650nm DN+:193-2500nm 角度選擇 自動:45-90° 手動:55-75°(5°步進),90° 固定:65° 其他選擇 Mapping選擇:100×100mm(供參考,按需定制) 溫控臺:室溫一600C(供參考,按需定制) |
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